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一種傳感器芯片的制作方法

文檔序號(hào):42860605發(fā)布日期:2025-08-29 19:06閱讀:6來(lái)源:國(guó)知局

本技術(shù)涉及半導(dǎo)體,具體為一種傳感器芯片。


背景技術(shù):

1、隨著技術(shù)的不斷迭代進(jìn)步,mems(微機(jī)電系統(tǒng))傳感器芯片的尺寸逐漸縮小,將芯片做小的優(yōu)勢(shì)是能夠降低生產(chǎn)成本;但芯片尺寸做小的同時(shí),膜層結(jié)構(gòu)中出現(xiàn)的應(yīng)力對(duì)膜層的影響越發(fā)明顯。例如,當(dāng)膜層結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)成多邊形結(jié)構(gòu)時(shí),應(yīng)力會(huì)集中在多邊形結(jié)構(gòu)中各個(gè)角的位置;若應(yīng)力得不到有效釋放,則會(huì)影響到芯片應(yīng)用的可靠性。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、有鑒于現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷,本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是如何改善膜層結(jié)構(gòu)的應(yīng)力以提高傳感器芯片的可靠性。

2、為了解決上述提出的至少一個(gè)技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型公開(kāi)了一種傳感器芯片。

3、根據(jù)本公開(kāi)的一方面,提供了一種傳感器芯片,所述傳感器芯片包括多層結(jié)構(gòu),所述多層結(jié)構(gòu)包括:

4、硅襯底;所述硅襯底具有在其厚度方向相對(duì)而設(shè)的第一側(cè)以及第二側(cè),背板、犧牲層以及振膜層疊設(shè)置于所述第一側(cè);所述犧牲層設(shè)置于所述背板以及所述振膜之間;

5、所述背板為多邊形結(jié)構(gòu);所述振膜上設(shè)置有圍繞所述背板周向設(shè)置的至少一個(gè)第一挖槽;所述第一挖槽貫穿所述多層結(jié)構(gòu)中的一層或多層。

6、在一些可能的實(shí)施例中,所述第一挖槽的數(shù)量被設(shè)置為多個(gè),且多個(gè)第一挖槽以預(yù)設(shè)間隔圍繞所述背板周向均勻設(shè)置。

7、在一些可能的實(shí)施例中,所述背板設(shè)置于所述振膜以及所述硅襯底之間;

8、所述第一挖槽設(shè)置于所述振膜上并貫穿所述振膜。

9、在一些可能的實(shí)施例中,所述第一挖槽還貫穿所述犧牲層、所述背板以及所述硅襯底。

10、在一些可能的實(shí)施例中,所述振膜設(shè)置于所述背板以及所述硅襯底之間;

11、所述第一挖槽依次貫穿所述背板、所述犧牲層以及所述振膜。

12、在一些可能的實(shí)施例中,所述第一挖槽還貫穿所述硅襯底。

13、根據(jù)本公開(kāi)的另一方面,提供了另一種傳感器芯片,所述傳感器芯片包括多層結(jié)構(gòu),所述多層結(jié)構(gòu)包括:

14、硅襯底;所述硅襯底具有在其厚度方向相對(duì)而設(shè)的第一側(cè)以及第二側(cè),背板、犧牲層以及振膜層疊設(shè)置于所述第一側(cè);所述犧牲層設(shè)置于所述背板以及所述振膜之間;所述背板為多邊形結(jié)構(gòu);

15、所述硅襯底的第二側(cè)設(shè)置有第二挖槽;所述第二挖槽內(nèi)部填充膠水。

16、在一些可能的實(shí)施例中,所述振膜設(shè)置于所述背板以及所述硅襯底之間;或,

17、所述背板設(shè)置于所述振膜以及所述硅襯底之間。

18、在一些可能的實(shí)施例中,所述振膜上設(shè)置有圍繞所述背板周向設(shè)置的至少一個(gè)第一挖槽;所述第一挖槽貫穿所述多層結(jié)構(gòu)中的一層或多層。

19、在一些可能的實(shí)施例中,所述第一挖槽的數(shù)量被設(shè)置為多個(gè),且多個(gè)第一挖槽以預(yù)設(shè)間隔圍繞所述背板周向均勻設(shè)置。

20、實(shí)施本實(shí)用新型,具有如下有益效果:

21、本實(shí)用新型中,傳感器芯片包括多層結(jié)構(gòu),多層結(jié)構(gòu)包括硅襯底、背板、犧牲層以及振膜;其中背板為多邊形結(jié)構(gòu),為改善膜層結(jié)構(gòu)為多邊形結(jié)構(gòu)時(shí)存在的層間應(yīng)力,在不改變芯片內(nèi)部膜層結(jié)構(gòu)的情況下,通過(guò)在振膜上設(shè)置貫穿多層結(jié)構(gòu)的一層或多層的第一挖槽,以實(shí)現(xiàn)應(yīng)力的改善,進(jìn)而提高傳感器芯片的可靠性;或者,改變芯片晶圓的結(jié)構(gòu),通過(guò)在硅襯底中設(shè)置第二挖槽并在第二挖槽中填充膠水,通過(guò)控制第二挖槽的體積來(lái)控制膠水填充量,以實(shí)現(xiàn)應(yīng)力的改善,以及改善膠水進(jìn)入背腔并增加傳感器芯片和pcb板之間的粘附力,進(jìn)而提高傳感器芯片的可靠性。



技術(shù)特征:

1.一種傳感器芯片,其特征在于,所述傳感器芯片包括多層結(jié)構(gòu)(1),所述多層結(jié)構(gòu)(1)包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種傳感器芯片,其特征在于,

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種傳感器芯片,其特征在于,

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種傳感器芯片,其特征在于,

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種傳感器芯片,其特征在于,

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種傳感器芯片,其特征在于,

7.一種傳感器芯片,其特征在于,所述傳感器芯片包括多層結(jié)構(gòu)(1),所述多層結(jié)構(gòu)(1)包括:

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種傳感器芯片,其特征在于,

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種傳感器芯片,其特征在于,

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種傳感器芯片,其特征在于,


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開(kāi)了一種傳感器芯片,其特征在于,所述傳感器芯片包括多層結(jié)構(gòu),所述多層結(jié)構(gòu)包括:硅襯底;硅襯底具有在其厚度方向相對(duì)而設(shè)的第一側(cè)和第二側(cè),背板、犧牲層以及振膜層疊設(shè)置于第一側(cè);犧牲層設(shè)置于背板以及振膜之間;背板為多邊形結(jié)構(gòu);振膜上設(shè)置有圍繞背板周向設(shè)置的至少一個(gè)第一挖槽;第一挖槽貫穿所述多層結(jié)構(gòu)中的一層或多層。本技術(shù)通過(guò)在傳感器芯片中設(shè)置貫穿多層結(jié)構(gòu)的挖槽,以實(shí)現(xiàn)對(duì)于多邊形膜層結(jié)構(gòu)中存在的應(yīng)力進(jìn)行釋放與平衡,減少應(yīng)力對(duì)于振膜結(jié)構(gòu)、完整性等多方面的影響,從而提高傳感器芯片的可靠性。

技術(shù)研發(fā)人員:翁國(guó)軍
受保護(hù)的技術(shù)使用者:蘇州園芯微電子技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20241028
技術(shù)公布日:2025/8/28
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