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刻繪控制方法和裝置、存儲介質(zhì)及電子裝置與流程

文檔序號:42833913發(fā)布日期:2025-08-26 18:44閱讀:9來源:國知局

本申請涉及刻繪設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域,具體而言,涉及一種刻繪控制方法和裝置、存儲介質(zhì)及電子裝置。


背景技術(shù):

1、目前,刻繪設(shè)備可以通過刻刀對紙張或者其他介質(zhì)進行刻繪(例如,刻繪、切割等),而刻繪路徑對于刻繪的效率和刻繪成功率具有較大影響。相關(guān)技術(shù)中,在進行刻繪控制時,通常是基于掃描到的刻繪圖案直接進行圖案刻繪的。然而,上述刻繪控制方式存在刻繪成功率低的問題。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請實施例提供了一種刻繪控制方法和裝置、存儲介質(zhì)及電子裝置,以至少解決相關(guān)技術(shù)中的刻繪控制方式存在由于刻繪易出錯導(dǎo)致的刻繪成功率低的問題。

2、根據(jù)本申請實施例的一個方面,提供了一種刻繪控制方法,包括:確定目標(biāo)刻繪內(nèi)容的指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑,其中,目標(biāo)刻繪內(nèi)容是通過刻繪工具在刻繪介質(zhì)上所刻繪的內(nèi)容,指定刻繪區(qū)域為目標(biāo)刻繪內(nèi)容的至少部分刻繪區(qū)域;在指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑包含閉合形狀的一組刻繪圖案的情況下,控制刻繪工具在刻繪介質(zhì)上刻繪一組刻繪圖案中的每個刻繪圖案;在刻繪到每個刻繪圖案的刻繪終點的情況下,控制刻繪工具對每個刻繪圖案進行閉合補償,以使刻繪出的每個刻繪圖案閉合。

3、根據(jù)本申請實施例的另一個方面,還提供了一種刻繪控制裝置,包括:第一確定單元,用于確定目標(biāo)刻繪內(nèi)容的指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑,其中,目標(biāo)刻繪內(nèi)容是通過刻繪工具在刻繪介質(zhì)上所刻繪的內(nèi)容,指定刻繪區(qū)域為目標(biāo)刻繪內(nèi)容的至少部分刻繪區(qū)域;第一刻繪單元,用于在指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑包含閉合形狀的一組刻繪圖案的情況下,控制刻繪工具在刻繪介質(zhì)上刻繪一組刻繪圖案中的每個刻繪圖案;補償單元,用于在刻繪到每個刻繪圖案的刻繪終點的情況下,控制刻繪工具對每個刻繪圖案進行閉合補償,以使刻繪出的每個刻繪圖案閉合。

4、根據(jù)本申請實施例的又一方面,還提供了一種計算機可讀的存儲介質(zhì),該計算機可讀的存儲介質(zhì)中存儲有計算機程序,其中,該計算機程序被設(shè)置為運行時執(zhí)行上述刻繪控制方法。

5、根據(jù)本申請實施例的又一方面,還提供了一種電子裝置,包括存儲器、處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的計算機程序,其中,上述處理器通過計算機程序執(zhí)行上述的刻繪控制方法。

6、在本申請實施例中,通過在刻繪到刻繪圖案的刻繪終點時進行閉合補償?shù)姆绞?,確定目標(biāo)刻繪內(nèi)容的指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑,其中,目標(biāo)刻繪內(nèi)容是通過刻繪工具在刻繪介質(zhì)上所刻繪的內(nèi)容,指定刻繪區(qū)域為目標(biāo)刻繪內(nèi)容的至少部分刻繪區(qū)域;在指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑包含閉合形狀的一組刻繪圖案的情況下,控制刻繪工具在刻繪介質(zhì)上刻繪一組刻繪圖案中的每個刻繪圖案;在刻繪到每個刻繪圖案的刻繪終點的情況下,控制刻繪工具對每個刻繪圖案進行閉合補償,以使刻繪出的每個刻繪圖案閉合,由于針對每個刻繪圖案,控制刻繪工具進行閉合補償,可以避免由于刻繪精準(zhǔn)度不夠?qū)е碌目汤L圖案不閉合的情況(對于圖案切割的方式,刻繪圖案不閉合會導(dǎo)致無法切斷刻繪材料),提高圖案刻繪的準(zhǔn)確性,達到提高刻繪成功率的技術(shù)效果,進而解決了相關(guān)技術(shù)中的刻繪控制方式存在刻繪成功率低的問題。



技術(shù)特征:

1.一種刻繪控制方法,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述控制所述刻繪工具在所述刻繪介質(zhì)上刻繪所述一組刻繪圖案中的每個刻繪圖案,包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,在所述控制所述刻繪工具按照由內(nèi)向外的順序在所述刻繪介質(zhì)上依次刻繪所述關(guān)聯(lián)刻繪圖案組中的每個關(guān)聯(lián)刻繪圖案之前,所述方法還包括:

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其特征在于,在所述控制所述刻繪工具在所述刻繪介質(zhì)上刻繪所述一組刻繪圖案中的每個刻繪圖案之前,所述方法還包括:

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述每個刻繪圖案被分別劃分為一組切割路徑,所述每個刻繪圖案的每條切割路徑為所述刻繪工具進行一次連續(xù)切割所切割的路徑;

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述每個刻繪圖案被分別劃分為一組切割路徑,所述每個刻繪圖案的每條切割路徑為所述刻繪工具進行一次連續(xù)切割所切割的路徑;

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述每個刻繪圖案被分別劃分為一組切割路徑,所述每個刻繪圖案的每條切割路徑為所述刻繪工具進行一次連續(xù)切割所切割的路徑;

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述對所述每個刻繪圖案包含的一組線段進行擬合處理,得到所述每個刻繪圖案的一組擬合線段,包括:

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法,其特征在于,所述交替沿著指定掃描方向和所述指定掃描方向的反方向?qū)λ瞿繕?biāo)刻繪內(nèi)容進行區(qū)域掃描,包括:

11.一種刻繪控制裝置,其特征在于,包括:

12.一種計算機可讀的存儲介質(zhì),其特征在于,所述計算機可讀的存儲介質(zhì)包括存儲的程序,其中,所述程序運行時執(zhí)行權(quán)利要求1至10中任一項所述的方法。

13.一種電子裝置,包括存儲器和處理器,其特征在于,所述存儲器中存儲有計算機程序,所述處理器被設(shè)置為通過所述計算機程序執(zhí)行權(quán)利要求1至10中任一項所述的方法。


技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種刻繪控制方法和裝置、存儲介質(zhì)及電子裝置,其中,上述方法包括:確定目標(biāo)刻繪內(nèi)容的指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑,其中,目標(biāo)刻繪內(nèi)容是通過刻繪工具在刻繪介質(zhì)上所刻繪的內(nèi)容,指定刻繪區(qū)域為目標(biāo)刻繪內(nèi)容的至少部分刻繪區(qū)域;在指定刻繪區(qū)域內(nèi)的待刻繪路徑包含閉合形狀的一組刻繪圖案的情況下,控制刻繪工具在刻繪介質(zhì)上刻繪一組刻繪圖案中的每個刻繪圖案;在刻繪到每個刻繪圖案的刻繪終點的情況下,控制刻繪工具對每個刻繪圖案進行閉合補償,以使刻繪出的每個刻繪圖案閉合。通過本申請,解決了相關(guān)技術(shù)中的刻繪控制方式存在由于刻繪易出錯導(dǎo)致的刻繪成功率低的問題。

技術(shù)研發(fā)人員:江德章,蔡東升,王曉偉,郭晉鵬
受保護的技術(shù)使用者:珠海趣印科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/8/25
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